商业秘密与专利技术的区别是什么

第一，专利与商业秘密保护的范围不同。有的可以成为商业秘密的创新成果不能成为专利；专利包括发明、实用新型和外观设计，商业秘密包括经营信息和技术信息等商业信息。商业信息基本上是不能成为专利受到保护的。
第二，取得程序上不同。专利权的取得程序冗长且复杂，尤其是发明专利需要申请，早期公开、实质审查等程序，专利行政部门授权后方可取得专利权。而商业秘密完全是自动取得的，创新成果一旦完成即具有受法律保护的商业秘密权，无需行政部门的审查与审批，也无明确的授权程序。。
第三，专有性不同。二者均具有专有性，专利的独占性极强，不允许相同的专利产品上具有两个不同的权利人存在（在先权利、先用权等除外）；但是商业秘密的独占性具有相对性，不排除其他人的善意取得，包括自行研发、反向工程等，法律均认可后者的权利。
第四，存在状态不同：专利权的取得以公开为前提，也就是说权利人必须将专利技术公开到本领域中等技术人员能够明确了解的状态，以专利申请文件的公开为方式，公开是取得权利的前提，以公开换取法律的独占性保护。而商业秘密一直处于秘密状态，这也是商业秘密的特点之一。
第五，授权的条件不同：专利的授权需要发明创造具有新颖性、创造性和实用性。而商业秘密需要的是秘密性和保密措施。一般来说，商业秘密的条件一定程度上远远低于专利权的条件（尤其是发明专利的条件）；
第六，保护的时间性不同。专利权具有严格的时间限制，发明专利为二十年，实用新型专利为十年，外观设计专利为十五年，均自申请日起计算。只有在法定的保护期间内，权利人才具有独占的权利，超出法定保护期间，专利便会变成公共财富。商业秘密并没有保护期限的限制，权利人只要能够采取得当的保密措施，则可以永远地以商业秘密的权利予以保护。